摘要:现代净化手术间采用净化系统（其中包括百级、千级、万级净化系统）为保持手术室的空气无菌提供了有利条件，但无论设备多么先进，必须有一个正确的管理方法。以下就净化手术室日常管理做如下总结。手术室全部为净化区域，净化室设计，分内外走廊、手术室、洗手间、无菌物品贮藏间、准备间，贵重仪器放置间均在内走廊;污物的运送及接待参观人员走外走廊。根据手术间的净化级别合理分配无菌手术间、一般手术间和污染手术间。
洁净室中的温湿度控制洁净空间的温湿度主要是根据工艺要求来确定，但在满足工艺要求的条件下，应考虑到人的舒适度感。随着空气洁净度要求的提高，出现了工艺对温湿度的要求也越来越严的趋势。具体工艺对温度的要求以后还要列举，但作为总的原则看，由于加工精度越来越精细，所以对温度波动范围的要求越来越小。例如在大规模集成电路生产的光刻曝光工艺中，作为掩膜板材料的玻璃与硅片的热膨胀系数的差要求越来越小。直径100 um的硅片，温度上升1度，就引起了0.24um线性膨胀，所以必须有±0.1度的恒温，同时要求湿度值一般较低，因为人出汗以后，对产品将有污染，特别是怕钠的半导体车间，这种车间不宜超过25度。湿度过高产生的问题更多。相对湿度超过55%时，冷却水管壁上会结露，如果发生在精密装置或电路中，就会引起各种事故。相对湿度在50%时易生锈。此外，湿度太高时将通过空气中的水分子把硅片表面粘着的灰尘化学吸附在表面耐难以清除。相对湿度越高，粘附的难去掉，但当相对湿度低于30%时，又由于静电力的作用使粒子也容易吸附于表面，净化室厂家，同时大量半导体器件容易发生击穿。对于硅片生产温度范围为35—45%。
随着科学技术的发展，工业产品的更新换代很快，福州净化室，人们对生活质量要求也越来越高，工业洁净室净化工程、生物洁净室净化工程的建造日新月异，因此洁净室净化工程设计本身便具有高新技术、技术密集和资金密集的特点，为了提高洁净室净化工程建成后的技术经济效益，在进行洁净室净化工程设计时应设法尽可能地考虑一定的灵活性，以便使建成后的洁净室净化工程能随着科学技术的发展*可以方便地进行技术改造。
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